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power-plan的影響因素有哪些

發布時間:2021-12-22 16:07:31 來源:億速云 閱讀:197 作者:柒染 欄目:互聯網科技

本篇文章給大家分享的是有關power-plan的影響因素有哪些,小編覺得挺實用的,因此分享給大家學習,希望大家閱讀完這篇文章后可以有所收獲,話不多說,跟著小編一起來看看吧。

Power-Plan或者說PG如何打,這是一個仁者見仁智者見智的問題,沒有一個標準的答案,因為有各種各樣的影響因素。下面將列舉一些可能的影響因素:

和design相關

  • 如果design的utilization很低,那就能打多密就打多密。utilization很高,打PG的時候就得考慮會不會讓信號線走線變得困難,即產生congestion或者DRC。

  • 對于同樣的utilization,同樣的PG結構,交換機模塊的congestion肯定比其他模塊的congestion大。所以對于這種特殊的模塊,就得仔細調整PG的結構。

  • 對于功耗要求不同的design,如手機芯片和電腦芯片,因對功耗的要求大不一樣,所以PG結構也大不一樣。

和sign-off標準相關

  • sign-off標準包括static-IR-drop和dynamic-IR-drop,不同的design對這個標準要求不一樣,基于不同的標準,對PG結構的要求也不同。

  • sign-off的時候需要根據某個工作場景的activity 文件,進行功耗跟IR分析,常用的activity文件格式有:VCD (Value Change Dump file) , FSDB, SAIF(Switching Activity Interchange Format)。即使同一個design,不同工作場景的activity文件產生的IR-Drop也大不一樣。

先入經驗

  • 一般PG結構的選擇是基于先前的項目經驗。但隨著工藝不斷進步,之前的經驗并不一定是最優化的也不一定適用于當前工藝。

  • 40nm工藝以上一般只用M1做rail,但是在先進工藝下,M1的電阻率比較高,由M1造成的IR-drop比較大,而且占主要的因素。所以可能就需要M2也作為rail,所以先入經驗要隨著工藝的改進做調整。

和選擇的工藝和金屬層數有關

  • 不同的工藝,pitch和width大不一樣,采用LVT或者HVT等造成的功耗也大不一樣,不能直接像工藝尺寸一樣簡單的shrink。

  • 即使同一種工藝,也可以選擇不同數目的金屬層。少一層金屬就省一層mask,就省一筆錢。比如40nm工藝,如果選用8層金屬,流片一次可能需要100W,如果選用7層,流片一次則需要95W。單看可能差別不是很大,但是如果量很大很大,節省的成倍就十分可觀了。

  • 選擇不同的金屬層,PG結構自然不同。

對PG進行微調

PG怎么打,這是每個公司的機密,作者也不能講很多,一般是先初略的打一版看,然后在signoff工具中看看結果,再基于該結果和congestion的情況再進行調節。下面講講對給定的PG結構,在保證同樣的IR-drop的情況下,如何通過微調,來省出更多的繞線資源,減小congestion或者基于同樣congestion的情況下,可以額外的增強PG結構,降低IR-drop。

微調的原理是什么?

在新工藝下signal-routing都是在track上走線的,不會發生在半track上走線的情況。例如下面畫了4個track,2條走線。在老的工藝下,完全沒問題,想咋走咋走,只要滿足min-spacing就好了。但是在新的工藝下,就得規規矩矩的,每條走線都必須在track上(這里只是說signal-routing必須在track)。

power-plan的影響因素有哪些

必須在Track上有幾個方面的原因吧:

  • spacing是一個離散的值。在老的工藝下,無限長且平行的兩條走線,只要spacing是大于某個值的就沒問題,可以是任意的浮點數。但是在新的工藝下,大于某個值不準確,spacing是一個離散的值。例如spacing的表格是0.1,0.2,0.3,如果spacing小于0.3,那么只能選0.1和0.2兩個值,如果spacing大于0.3,則可以是任意浮點數。

  • width也同理,也是一個離散的值。

  • 很多DRC規則都是基于這種離散的值的,不僅僅是這種簡單的spacing/width,所以p不僅僅是違反了這一條,后面還有更多的DRC等著你。

  • 新的工藝都采用了double-pattern,走線不在Track上,后面在分不同mask的時候會有問題。

上面說到走線必須都在track上,更準確的說法是為了減少各種可能的DRC,工具走signal-routing的時候都在track上,因為PR工具看不到所有sign-off的DRC-rule,所以不能也不敢亂走。我們自己打PG的時候還是可以隨便打,只要沒有DRC違規就可以了。

這些因素雖然不會影響IR-drop,但是卻可以通過調節這些因素,能夠減小congestion或者基于同樣congestion的情況下,可以額外的增強PG結構。

下面就舉一個例子,例子中的數據都是作者隨便取的,不具有代表性。

1

原始結構    

假設原始的PG如下圖所示,中間寬的是PG,兩邊的是信號走線。

power-plan的影響因素有哪些

我們來分析分析這個圖:

  • PG在Track上,沒問題

  • 取的寬度占用了3個track,沒問題

但是,由于各種DRC,額外的2個Track其實也不能用,其實PG占用了5個track。浪費!

 

 2

優化方案一    

我們就來進行一下優化:既然要占5個Track,干脆PG再寬點不更好嗎?

而且PG可以不需要非得在track上,可以在track中間。例如下圖所示,不僅加寬了PG,而且居然還能省一個Track!

power-plan的影響因素有哪些

 

 

優化方案二

如下圖所示,干脆就不要用uniform-track,直接創建non-uniform-track。仍然是用同樣的PG寬度,但是卻省下了不少的繞線資源。

power-plan的影響因素有哪些

以上就是power-plan的影響因素有哪些,小編相信有部分知識點可能是我們日常工作會見到或用到的。希望你能通過這篇文章學到更多知識。更多詳情敬請關注億速云行業資訊頻道。

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